Le Congrès International de Métrologie revient du 19 au 21 septembre 2017 à Paris, en conjonction avec le Salon ENOVA.

Cette manifestation, à vocation industrielle, permet :
- d’améliorer ses processus de mesure, d’analyse et d’essais, et ainsi maîtriser ses risques,
- de suivre les évolutions des techniques, les avancées R&D et découvrir des applications industrielles pratiques,
- de trouver sur l’exposition des technologies et solutions de mesure.
Le public est large et tous les secteurs industriels s’y retrouvent :
- utilisateurs de moyens de mesure de toutes industries et laboratoires,
- responsables fiabilité et qualité, managers et décideurs,
- fabricants d’appareils de mesure, distributeurs et prestataires,
- enseignants et chercheurs.

Les conférences concernent :
- les processus : incertitudes, étalonnage, vérification, formation, optimisation des coûts …
- les techniques : masse, force, débit, dimensionnel, électricité, température, optique, mesures chimiques, mesures biologiques …
- les perspectives : mesures dynamiques, fabrication additive, data métrologie, réseaux intelligents, nanotechnologie, biotechnologie et santé, préoccupations environnementales …

Les tables rondes donneront lieu à des débats directs :
- drones et surveillance
- déclarations de conformité et évolution de l’ISO 17025
- mesures dynamiques et usine du futur
- progrès en mesure à l’échelle nano
- métrologie dans l’industrie pharmaceutique
- mesures pour la qualité de l’eau

Appel à conférences jusqu’au 15 janvier 2017.